丁香花高清在线观看完整电影,色墦五月丁香,五月丁香啪啪,丁香花高清在线完整版,丁香花免费高清视频完整版动漫,丁香花视频在线观看电视剧,丁香花完整视频在线观看,丁香花电影高清在线小说阅读,丁香花在线高清视频完整版观看,丁香花在线高清完整版视频

產(chǎn)品中心您當前的位置：首頁 > 產(chǎn)品中心 > 反應釜 > 氫化釜 > 氫化反應釜，二元胺氫化釜

基礎信息Product information

產(chǎn)品名稱：氫化反應釜，二元胺氫化釜

產(chǎn)品型號：

產(chǎn)品簡介：

氫化反應釜，二元胺氫化釜，由加氫口、脈沖閥、攪拌電機、進料口、攪拌器、釜體、溫度表、壓力表、出料口組成，其特征在于釜體的上端一側設置進料口，釜體的上端另一側設置加氫口，加氫口的下部設置脈沖閥，釜體的下端設置出料口。

產(chǎn)品特性Product characteristics

二元胺氫化釜，由加氫口、脈沖閥、攪拌電機、進料口、攪拌器、釜體、溫度表、壓力表、出料口組成，其特征在于釜體的上端一側設置進料口，釜體的上端另一側設置加氫口，加氫口的下部設置脈沖閥，釜體的下端設置出料口，釜體的中心軸線位置上設置攪拌器，攪拌器的上端設置攪拌電機，釜體的左側設置壓力表，釜體的右側設置溫度表，本實用型的有益效果是二元胺氫化釜設計有脈沖閥，氫氣采用脈沖方式加入，產(chǎn)品反應更加均勻，有效提了產(chǎn)品質(zhì)量。

氫化反應釜，二元胺氫化釜主要特點是以靜密封取替了傳統(tǒng)的填料密封和機械密封，從而實現(xiàn)整臺反應釜在密封狀態(tài)下工作。因此，更適合于各種有毒、易燃、易爆以及其它滲透力*的化學介質(zhì)進行攪拌反應，是石油化工、有機合成、制藥、食品等工藝中進行硫化、氟化、氫化、氧化等反應設備。

氫化反應釜，二元胺氫化釜主要應用于生產(chǎn)山梨醇、木糖醇、麥芽糖醇、糠醇以及醫(yī)藥中間體等，因氫氣為易燃易爆氣體，當在空氣中達到一定的濃度與到明火即可爆炸，所以當反應釜用于加氫反應時，請將設備上的所有容易產(chǎn)生電火花的設備換成防爆的，主要有：驅(qū)動電機應選用防爆電機，加熱器選用防爆加熱器，溫度傳感器、壓力傳感器等等，所有帶電設備均需選用防爆的，氫氣的防爆等級ExdⅡCT4。

技術參數(shù)表：

指標項目	公稱容積 L
指標項目	50	100	200	300	500	1000	2000	3000	5000
內(nèi)徑/內(nèi)	350/520	450/640	600/910	600/1290	800/1100	1000/1390	1200/2400	1300/3050
盤管傳熱面積㎡	0.2	0.5	0.8	1.0	1.2	2.5-4	4	5-8
工作壓力 Mpa	-0.1-15.0Mpa							-0.1-10.0Mpa
夾套工作壓力	0.1-1.6Mpa
工作溫度 ℃	室溫-300℃
加熱方式	夾套蒸汽、夾套導熱油電加熱管、遠紅外、夾套油循環(huán)等
攪拌轉(zhuǎn)速 r/min	20～1000r/min 可調(diào)
攪拌槳葉形式	推進式、槳式、錨式、渦輪式；
電機功率 Kw	0.55	0.75	1.1/3	3	3/4	5.5/7.5	7.5/11	11/15	15/18
釜蓋開口	攪拌口配磁力攪拌器，氣相口配球閥（進、排氣、抽真空用），液相口配球閥及釜內(nèi)插底管（反應過程中可用來取樣或上出料用），加料口配盲板，測控溫口配保護管及鉑電阻，壓力表安全爆破口配壓力表及安全防爆裝置，釜內(nèi)冷卻盤管進、出口配閥門。開口可選配：釜底放料口配閥門，氣體取樣口配閥門及取樣器系統(tǒng)，液體取樣口配閥門及取樣器系統(tǒng)，進出口匹配單向閥，氣體進口配減壓閥，氣體出口配背壓閥，釜體釜蓋匹配觀察玻璃視窗，釜體液位計。
控制系統(tǒng)	配具有自整定功能PID控溫表，控溫精度±1.5℃，具有釜內(nèi)轉(zhuǎn)速顯示及無級調(diào)速功能，具加熱電壓可調(diào)功能，配有加熱電壓表、電機電流表、工作時間顯示表。連續(xù)操作控制系統(tǒng)：氣體增壓系統(tǒng)，液體加料系統(tǒng)，恒壓加料罐，接收及冷凝裝置，壓分離裝置，質(zhì)量流量控制系統(tǒng)，自動冷卻系統(tǒng)，壓力傳感器超壓報警，超溫報警斷電，計算機遠程控制、數(shù)據(jù)采集等。
主體材料	1Cr18Ni9Ti （ 321 ）、00Cr17Ni14MO 2 （ 316L ）、 0Cr18Ni9 （ 304 ）、鎳、鎳基合金（哈氏合金、蒙乃爾合金、因康鎳合金）、鈦、銅、鋯、鉭、鋁及其合金、雙相不銹鋼、聚四氟乙烯等
控制儀的工作環(huán)境	環(huán)境溫度 0～50 ℃，相對濕度為 30～85% ，周圍介質(zhì)中不含導電塵埃及腐蝕氣體。